Основным видом деятельности НИЛ ФШ являются исследование и разработка технологических процессов формирования топологического рисунка ИС в маскирующем слое фотошаблонов методами лазерной и электронно-лучевой литографии, включая процессы аттестации на соответствие проектным данным.
В НИЛ ФШ разработаны и внедрены технологические процессы по изготовлению стандартных бинарных фотошаблонов по замкнутому технологическому циклу для проекционной и контактной литографии, включая обработку исходных данных, введение коэффициентов коррекции топологических элементов, подготовку управляющей информации в заданном формате, для процесса прямой литографии на полупроводниковые пластины.
В процессе исследований и разработок технологических процессов используются современные методы и ПО по обработке исходных данных, учитывающие особенности литографических процессов и используемых материалов.
Мы сотрудничаем с более 50 предприятиями по всей территории Российской Федерации.